全板电镀铜及维护： 全板电镀铜工艺用于保护新沉积的化学铜层，防止其被酸浸蚀，并通过电镀增厚铜层至适当程度。槽液成分主要包括硫酸铜和硫酸，采用高酸低铜配方，以确保电镀时板面厚度的均匀分布和对深孔小孔的充分覆盖。为了保持工艺稳定，需每天根据千安小时消耗情况补充铜光剂，且每两周更换过滤泵滤芯。
图形电镀铜与镀锡： 图形电镀铜的目的是加厚孔铜和线路铜，以满足各线路的额定电流负载需求，确保线路的导电性能。而镀锡工艺则是通过图形电镀纯锡作为金属抗蚀层，以保护蚀刻部分不受进一步腐蚀。
PCB电镀的主要方法包括浸镀、喷镀和刷镀等。 浸镀：将电路板完全浸入含有金属离子的电镀液中，通过电流作用使金属离子在电路板表面沉积形成金属薄膜。浸镀具有操作简单、成本低廉的优点，但可能存在金属层分布不均匀的问题。 喷镀：利用喷枪将电镀液喷洒在电路板表面，通过控制喷枪的移动速度和角度，实现金属层的均匀分布。喷镀适用于对金属层厚度和分布要求较高的场合。 刷镀：使用刷子将电镀液涂抹在电路板表面，通过刷子的摩擦作用使金属离子在电路板表面沉积。刷镀适用于对局部区域进行电镀的情况。
垂直电镀工艺的局限性： 究其原因，这主要与电镀过程中的电流分布有关。在实际操作中，孔内电流往往呈现腰鼓形分布，即从孔边到孔中央逐渐减弱。这种分布特点导致大量铜沉积在表面与孔边，而孔中央所需铜层厚度则难以达到标准。严重时，铜层过薄或无铜层，给多层板的生产带来巨大损失。垂直电镀工艺在电流分布上存在问题，影响铜层的均匀沉积，尤其在高纵横比条件下。